为什么值得记录
ASML 与 TSMC 于 9 月 7 日成立业界合作倡议,推动 High-NA EUV 从 6 英寸向 12 英寸光罩过渡。2031 年试验线及 2033 年先进制程准备属于目标,非已完成产线。
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ASML 与 TSMC 于 9 月 7 日成立业界合作倡议,推动 High-NA EUV 从 6 英寸向 12 英寸光罩过渡。2031 年试验线及 2033 年先进制程准备属于目标,非已完成产线。
ASML 与 TSMC 于 9 月 7 日成立业界合作倡议,推动 High-NA EUV 从 6 英寸向 12 英寸光罩过渡。2031 年试验线及 2033 年先进制程准备属于目标,非已完成产线。